Depositing apparatus including vaporizer

기화기를 가지는 증착장치

Abstract

A deposition apparatus having a vaporizer is provided to improve the evaporation efficiency of source material by supplying source material and solvent to the vaporizer and to deposit a thin film without fault by using the complete reaction between the source material and reaction gas in the processing chamber. A deposition apparatus comprises a vaporizer(116) in which a source material(112) and reaction gas of liquid state are supplied and vaporized into imperfectly burned gas mixture, and a processing chamber(110) provided with the gas mixture from the vaporizer. The processing chamber deposits a thin film on a substrate through complete reaction between the reaction gas and the source material, where the source material is organic source including ruthenium, the reaction gas is oxygen or ozone, and the thin film is ruthenium or ruthenium oxide film.
본 발명은 기화기에 반응가스 또는 용제를 공급하여, 액체상태의 소오스 물질의 기화효율을 증가시킨 기화기를 가지는 증착장치에 관한 것으로, 액체상태의 소오스 물질과 반응가스가 공급되어 불완전 반응상태의 혼합가스로 기화되는 기화기; 상기 기화기로부터 상기 혼합가스를 공급받아, 상기 소오스 물질과 상기 반응가스의 완전한 반응에 의해 기판 상에 박막을 증착시키는 공정챔버;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

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